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      產(chǎn)品詳細(xì)頁
      反射鏡,輸出耦合器和鏡頭

      反射鏡,輸出耦合器和鏡頭

      • 產(chǎn)品型號(hào):
      • 更新時(shí)間:2025-12-17
      • 產(chǎn)品介紹:反射鏡,輸出耦合器和鏡頭
        Ø根據(jù)客戶要求開發(fā)和生產(chǎn)特定組件,例如分束器和可變衰減器
        Ø單波長(zhǎng)增透膜,剩余反射率在AOI = 0°時(shí)R <0.25%,在AOI = 45°時(shí)R <0.6%(非偏振光)
        Ø寬帶和多波長(zhǎng)增透膜
      • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
      • 在線留言

      產(chǎn)品介紹

      品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
      組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

      反射鏡,輸出耦合器和鏡頭


      圖1:隨機(jī)偏光(a)的反射鏡(AOI = 45°)在193 nm下的測(cè)量的反射率和透射光譜(a)和在兩面都涂有193 nm氟化物AR涂層的CaF2窗口(b)

      Ø所有氟化物系統(tǒng)均確保高反射率和高損傷閾值

      ØPR涂層的公差為:

      ر 2% for R = 10 ... 30 %

      ر 3% for R = 30 ... 75 %

      ر 2% for R = 75 ... 90 % and

      ر 1% for R > 90 %

      ØCaF2(肖特公司193nm受激準(zhǔn)分子級(jí))和熔融石英的高質(zhì)量鏡面基板,窗口片和透鏡

      Ø根據(jù)客戶要求開發(fā)和生產(chǎn)特定組件,例如分束器和可變衰減器

      Ø單波長(zhǎng)增透膜,剩余反射率在AOI = 0°時(shí)R <0.25%,在AOI = 45°時(shí)R <0.6%(非偏振光)

      Ø寬帶和多波長(zhǎng)增透膜

      可變衰減器


      圖2:在不同的AOI(a)和透射率與AOI(b)下測(cè)得的可變衰減器的透射率光譜; 透射率從AOI = 0°時(shí)的T> 88%到AOI = 45°時(shí)的T <2%

      Ø可根據(jù)要求提供不同傳輸范圍的衰減器

      Ø衰減器可以與CaF2熔融石英的AR涂層補(bǔ)償板一起提供

      鋁反射鏡


      圖3:優(yōu)化了針對(duì)193nm的受保護(hù)Al鏡(a)和針對(duì)193nm的增強(qiáng)Al鏡(AOI = 45°(b))的測(cè)量反射光譜

      增強(qiáng)鋁鏡:Rp
      > 93%
      Rs
      > 99%
      Rr
      > 96%

      有關(guān)鋁鏡的更多信息,請(qǐng)參見目錄中的96-97頁。

       

      標(biāo)準(zhǔn)ArF激光元件的技術(shù)參數(shù)

      Coating

      Substrate

      Damage threshold*

      Lifetime test

          

      Fluoride coatings

         

      AR (0°, 193nm) R < 0.25%

      CaF2

      4 – 5 J/cm2

      2.5 x 108
      pulses, no damage**

      AR (0°, 193nm) R < 0.25%

      fused silica

      2 – 3 J/cm2

       

      PR (0°, 193nm) R = 25%

      CaF2

      3 – 4 J/cm2

      2.5 x 108
      pulses, no damage**

      PR (0°, 193nm) R = 50%

      CaF2

      2 – 3 J/cm2

      109
      pulses***

      HR (0°, 193nm) R > 96%

      CaF2

      2 – 3 J/cm2

      109
      pulses***, no damage
      1010
      pulses****, no damage
      4 x 109
      pulses*****, no damage

      HR (45°, 193nm) R > 95% (random polarized)

      CaF2

      2 – 3 J/cm2

       

      Oxide coatings

         

      HR (0°, 193nm) R>92%

      fused silica

      <1 J/cm2

       

      1)1000 - on -1,14 ns; 在Laser LaborGöttingen和Friedrich-Schiller - Jena大學(xué)進(jìn)行了測(cè)量

      2)能量密度:18mJ / cm 2,重復(fù)頻率:4kHz,脈沖持續(xù)時(shí)間:30ns; 在哥德根的COHERENT AG進(jìn)行測(cè)試

      3)能量密度:55mJ / cm 2,重復(fù)率:1kHZ,脈沖持續(xù)時(shí)間15ns; 在慕尼黑的COHERENT AG進(jìn)行測(cè)試

      4)能量密度:27mJ / cm 2,重復(fù)頻率:4kHz,脈沖持續(xù)時(shí)間:30ns; 在哥德根的COHERENT AG進(jìn)行測(cè)試

      5)能量密度:80mJ / cm 2,重復(fù)頻率:1kHz,脈沖持續(xù)時(shí)間:12ns; 在慕尼黑的COHERENT AG進(jìn)行測(cè)試

      反射鏡,輸出耦合器和鏡頭


      圖1:157nm的激光鏡(AOI = 0°,a)和轉(zhuǎn)向鏡(AOI = 45°,b)的測(cè)量反射率和透射光譜

      Ø激光鏡:AO = 0°時(shí)R = 92 ... 95%

      Ø轉(zhuǎn)向鏡(AOI = 45°):

      ØRs
      > 97%

      ØRp
      > 90%

      ØRr
      > 92%

      ØCaF2的高品質(zhì)鏡面基板,窗口片和鏡片(肖特公司157nm受激準(zhǔn)分子級(jí)品質(zhì))

      Ø具有公差的PR涂層

      ر 2 % for R = 10 ... 30 %

      ر 3 % for R = 30 ... 75 % and

      ر 2 % for R = 75 ... 90 %

      Ø根據(jù)客戶要求開發(fā)和生產(chǎn)特定組件,例如分束器和可變衰減器


      圖2:標(biāo)準(zhǔn)輸出耦合器在R = 50±3%和R = 25±2%時(shí)測(cè)得的反射光譜(背面未鍍膜)

      可變衰減器


      圖3:可變衰減器在不同AOI(a)和透射率與AOI(b)下測(cè)得的透射光譜透射率從AOI = 0°時(shí)的T> 75%到AOI = 45°時(shí)的T <5%

      F2激光鋁鏡


      圖4:受保護(hù)的Al鏡(a)和增強(qiáng)型Al鏡在157nm下的反射光譜(b)

      受保護(hù)的鋁鏡(針對(duì)157nm進(jìn)行了優(yōu)化):R = 74 ... 78%

      電介質(zhì)增強(qiáng)型鋁鏡:AOI = 0°時(shí)R = 94%

      有關(guān)鋁鏡的更多信息,請(qǐng)參閱我們的目錄中的第96 - 97頁。

      標(biāo)準(zhǔn)F2激光組件的技術(shù)數(shù)據(jù)

      Coating

      Spectral performance

      Lifetime test

      HR (0°, 157nm)

      R = 92 ... 95 %

      2 x 108
      – 1 x 109
      pulses*

      HR (45°, 157nm)

      R = 90 ... 94 % (random pol.)

       

      PR (0°, 157nm)

      R = 50 ± 3 %

      2 x 108
      – 1 x 109
      pulses*

      PR (0°, 157nm)

      R = 25 ± 3 %

      2 x 108
      – 1 x 109
      pulses*

      Attenuator

      T = 67 ± 3 %

      5 x 107
      pulses**, no damage

      Attenuator

      T = 33 ± 3 %

      1 x 108
      pulses***, no damage

      Beam splitter

      T = 20 ± 3 %

      1 x 108
      pulses***, no damage

      AR (0°, 157nm)

      0.3 ... 0.7 %

       

      *能量密度:25mJ / cm2,重復(fù)頻率:800Hz,脈沖持續(xù)時(shí)間:15ns; 在慕尼黑的COHERENT AG進(jìn)行測(cè)試

      **能量密度:15mJ / cm 2,速率:200Hz,脈沖持續(xù)時(shí)間:20ns; 在光電技術(shù)研究所(IPHT)耶拿研究所進(jìn)行測(cè)試

      ***能量密度:20 mJ / cm2,速率:50Hz,脈沖持續(xù)時(shí)間:20ns; 在光電技術(shù)研究所(IPHT)耶拿研究所進(jìn)行測(cè)試

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